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快速熱處理管式爐的應(yīng)用領(lǐng)域有哪些?

更新時(shí)間:2026-09-15      瀏覽次數(shù):50

1. 半導(dǎo)體與光電材料(RTP 經(jīng)典領(lǐng)域)

- 薄膜快速晶化、離子注入后退火、金屬薄膜合金化;

- 鈣鈦礦、氧化物薄膜、ITO、AZO 透明導(dǎo)電膜短時(shí)退火;

- 二維材料(石墨烯、MoS?等)快速熱解、缺陷修復(fù)、氣相硫化;

- 硅基小樣、晶片快速氧化、氮化。

IMG_20210714_101340.jpg

提示:晶圓大面積秒級(jí)退火一般選用**紅外燈 RTP 爐**;小型管式快速爐多用于小片試樣、粉體、薄膜小樣研發(fā)。

 2. 儲(chǔ)能材料(鋰電、鈉電、固態(tài)電池)

- 正極 / 負(fù)極前驅(qū)體**快速煅燒、脫溶劑、脫膠**;

- 固態(tài)電解質(zhì)粉體快速晶化、缺陷調(diào)控;

- 碳基負(fù)極材料短時(shí)碳化、石墨化預(yù)處理;

- 包覆改性,快速在顆粒表面構(gòu)建保護(hù)層;

> 優(yōu)勢(shì):一天可跑多組配方,加速新材料配方篩選。


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