配置與參數

1. **爐管**

- ≤1200℃：高純石英管（透明，便于觀察樣品）

- 1200~1700℃：99 高純剛玉管（耐高溫，不透明）

- 兩端真空法蘭：不銹鋼 KF 法蘭，金屬 / 氟橡膠密封，真空密封性強，區別普通氣氛爐簡易法蘭

2. **加熱元件**

- ≤1200℃：鎳鉻 / 鐵鉻鋁電阻絲

- 1400℃：硅碳棒

- 1600~1700℃：硅鉬棒

3. **真空系統**

- 低真空：機械旋片泵（可達 10?1 Pa）

- **高真空組合：機械泵 + 分子泵**，極限真空可達 10?3 ~ 10?? Pa

- 配套：真空規管、真空壓力表、真空閥門、放氣閥；可實時監測爐管內真空度

4. **溫控系統**

PID 可編程溫控儀表 / 觸摸屏，多段程序升溫保溫；熱電偶測溫，帶超溫、斷偶保護；升溫速率 0.1~10℃/min 可調

5. **氣氛模塊**

真空置換完成后，可回充惰性保護氣體（N?、Ar），實現**真空→氣氛**兩種工藝切換

工作原理

1. 樣品放入爐管，鎖緊兩端 KF 真空法蘭，形成密閉腔體；

2. 先開啟機械泵預抽，抽出爐管內大部分空氣；

3. 達到預真空后啟動分子泵，繼續抽取氣體，獲得高真空環境；

4. 溫控系統驅動加熱元件發熱，在高真空環境下對樣品熱處理；

5. 工藝結束，降溫到安全溫度，緩慢打開放氣閥破真空，取出樣品；

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> 可選工藝：抽至高真空保溫一段時間，再關閉真空泵，回充保護氣體，轉為氣氛燒結。

主要應用領域

1. **金屬材料**：金屬粉末、鈦合金、銅、鎳基小樣真空退火、真空光亮燒結，避免氧化

2. **新能源與陶瓷**：固態電解質、陶瓷粉體真空脫氣、真空燒結；鋰電材料真空熱處理

3. **炭材料**：碳膜、石墨烯、碳納米管真空碳化，減少雜質污染

4. **半導體與薄膜**：薄膜真空退火、CVD 氣相沉積、樣品脫氣處理

5. **科研小樣**：無機粉體、熒光粉、晶體在無氧氣環境下高溫固相反應